Intel bo preskočil naslednjo generacijo orodij za izdelavo procesorjev

Največji svetovni proizvajalec procesorjev tako v proizvodnjo ne bo vpeljal novih naprav za 157-nanometrsko litografijo, ampak namerava obstoječa proizvodna orodja, ki temeljijo na 193-nanometrski litografiji, nadgraditi z namestitvijo posebnih sistemov leč, nato pa neposredno preskočiti na tehnologijo Extreme Ultraviolet (EUV), naslednico 157-nanometrske tehnologije. EUV naj bi se v proizvodnji začela uporabljati šele konec desetletja, Intel pa je doslej v njen razvoj že vložil znatna sredstva. Strokovnjaki ocenjujejo, da bi Intelova odločitev lahko vplivala na ostale proizvajalce procesorjev. V nizozemskem podjetju ASML, ki je na področju izdelave orodij za polprevodniško litografijo vodilno v svetu in je prve naprave za 157-nanometrsko litografijo raziskovalnemu centru IMEC posredovalo minuli mesec, menijo, da se bodo ostali proizvajalci polprevodniških vezij vseeno odločili za nakup njihovih naprav.