Znanstveniki ameriškega računalniškega giganta IBM so na konferenci o mikrolitografiji v San Joseju predstavili metodo za izboljšanje procesa za izdelovanje manjših čipnih vezij.
Z globoko ultravijolično optično litografijo, ki se uporablja za tiskanje vezij na čipe, je znanstvenikom uspelo narisati črte po siliciju, ki so med seboj oddaljene le 29,9 nanometra (nanometer je milijoninka metra, kar je kar tritisočkrat tanjše od človeškega lasu). Razdalja med črtami je tako za tretjino manjša od tiste, ki se trenutno izrisuje v masovni proizvodnji integriranih vezij in je hkrati pod mejo 32 nanometrov, ki jo še dopušča risati optična litografija.
Robert Allen, direktor oddelka za litografske materiale v IBM-ovem laboratoriju Almden Research Center, je ob pomembnem dosežku dejal, da je njihov namen razvijati optično litografijo do najvišje možne ravni, saj tako izdelovalcem integriranih vezij še dolgo ne bo treba iskati dražjih alternativ izdelave. Zdaj imajo izdelovalci po njegovih besedah vsaj sedem let časa, preden bo nujna radikalna sprememba v tehnologiji izdelave čipov, so sporočili iz slovenske podružnice IBM.
Opozorilo: 297. členu Kazenskega zakonika je posameznik kazensko odgovoren za javno spodbujanje sovraštva, nasilja ali nestrpnosti.